Verfahren zur Herstellung einer Glasfaservorform mithilfe eines Plasmabrenners
EP2287119
Art B1
13. April 2016
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2287119
- Aktenzeichen
- EP10170807
- Anmeldetag
- 26. Juli 2010
- Veröffentlichung
- 13. April 2016
- Erteilung
- 13. April 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03B37/014
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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