Neue Fotoresistzusammensetzungen
EP2293143
Art B1
2. September 2015
Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2293143
- Aktenzeichen
- EP10163283
- Anmeldetag
- 19. Mai 2010
- Veröffentlichung
- 2. September 2015
- Erteilung
- 2. September 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Rohm and Haas
Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.
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