Wässrige Zusammensetzung zum Beschichten eines Photoresistmusters
EP2294149
Art B1
3. Dezember 2014
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials USA Corp. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2294149
- Aktenzeichen
- EP09766190
- Anmeldetag
- 17. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 3. Dezember 2014
- Erteilung
- 3. Dezember 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D133/14G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials USA Corp. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Mannheimer Patentanwaltskanzlei mit fachlich-wissenschaftlichem Team in Chemie, Verfahrenstechnik, Polymeren und Kunststofftechnik, Biotech, Pharma und Life Sciences, Mechanik und Optik sowie Elektrotechnik, Digital und KI.
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