Sputtering-Target mit dem Gesinterten Objekt, Verfahren zur Herstellung des Gesinterten Objekts auf Lanthanoxidbasis sowie Verfahren zur Herstellung des Sputtering-Targets mit dem Gesinterten Objekt
EP2298712
Art B1
1. Oktober 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2298712
- Aktenzeichen
- EP09794308
- Anmeldetag
- 23. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2014
- Erteilung
- 1. Oktober 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/00C04B35/50C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
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Schwerpunkte