Sputtering-Target auf Lanthanoxidbasis sowie Verfahren zur Herstellung des Sputtering-Targets
EP2298715
Art A1
23. März 2011
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2298715
- Aktenzeichen
- EP09794307
- Anmeldetag
- 23. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 23. März 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/462C04B35/486C04B35/49C04B35/645H01L21/28H01L29/51C04B35/50C23C14/08C23C14/34H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
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Schwerpunkte