Resist-Zusammensetzung, Verfahren zur Bildung einer Resist-Struktur und Verbindung
EP2299325
Art B1
17. Februar 2016
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2299325
- Aktenzeichen
- EP10194369
- Anmeldetag
- 30. September 2005
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2016
- Erteilung
- 17. Februar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
Hart-Davis, Jason
Paris, Frankreich
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