Geräteherstellungsverfahren mit EUV-Strahlung

EP2300878 Art B1 12. November 2014

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2300878
Aktenzeichen
EP09780491
Anmeldetag
13. Juli 2009
Veröffentlichung
12. November 2014
Erteilung
12. November 2014
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20H05G2/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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