System zur Überlagerungsmessung, Lithografisches Gerät, und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen unter Verwendung eines Solchen Systems zur Überlagerungsmessung
EP2304504
Art B1
3. Juli 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2304504
- Aktenzeichen
- EP09769074
- Anmeldetag
- 14. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2019
- Erteilung
- 3. Juli 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
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