Reinigungszusammensetzung, Reinigungsverfahren und Herstellungsverfahren für eine Halbleitervorrichtung
EP2305788
Art B1
16. Juli 2014
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2305788
- Aktenzeichen
- EP10177316
- Anmeldetag
- 17. September 2010
- Veröffentlichung
- 16. Juli 2014
- Erteilung
- 16. Juli 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C11D11/00C11D7/50C11D7/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München