Reinigungszusammensetzung, Reinigungsverfahren und Herstellungsverfahren für eine Halbleitervorrichtung

EP2305788 Art B1 16. Juli 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2305788
Aktenzeichen
EP10177316
Anmeldetag
17. September 2010
Veröffentlichung
16. Juli 2014
Erteilung
16. Juli 2014
Rechtsraum
EP
IPC
C11D11/00C11D7/50C11D7/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
FUJIFILM Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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