Sputtertarget aus Kupferlegierung und Halbleiterelementverdrahtung
EP2309021
Art B1
21. November 2012
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2309021
- Aktenzeichen
- EP10184839
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 21. November 2012
- Erteilung
- 21. November 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22C9/01C22C9/02H01L21/28H01L21/285H01L21/3205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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27
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