Herstellungsverfahren eines Epitaxial-Wafers
EP2309038
Art B1
2. Januar 2013
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2309038
- Aktenzeichen
- EP10010219
- Anmeldetag
- 22. September 2010
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2013
- Erteilung
- 2. Januar 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B15/04C30B29/06C30B15/02C30B15/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Baar, Christian
München, Deutschland
26
Patente gesamt
6
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1
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