Strahlungsempfindliche Positive Zusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur

EP2309332 Art A1 13. April 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2309332
Aktenzeichen: EP09797918
Anmeldetag: 14. Juli 2009
Veröffentlichung: 13. April 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/40C08F220/28G03F7/039H01L21/027G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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