Lithografieverfahren mit einer Nanodrahtmaske und mit Diesem Verfahren Hergestellte Nanoskalige Bauelemente

EP2313915 Art B1 29. Juli 2015

Anmelder: Nokia Technologies Oy, Nokia Corporation 🇫🇮

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2313915
Aktenzeichen
EP09802546
Anmeldetag
18. Juni 2009
Veröffentlichung
29. Juli 2015
Erteilung
29. Juli 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/775H01L29/423H01L29/06H01L21/335B82Y10/00B82Y40/00H01L29/66H01L21/308
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Nokia Technologies Oy
Nokia Corporation
Land
🇫🇮 Finnland
🇫🇮 Nokia Technologies

Finnisches Unternehmen der Nokia-Gruppe, das sich auf Patentlizenzierung sowie Forschung und Entwicklung im Bereich Mobilfunk-, Multimedia- und Netzwerktechnologien konzentriert.

14.989 Patente in unserer Datenbank

🇫🇮 Nokia

Nokia ist ein finnischer Technologiekonzern, der Netzwerkausrüstung und Telekommunikationstechnologie für Mobilfunk- und Festnetzbetreiber entwickelt. Das Unternehmen hält zudem umfangreiche Patente im Bereich Mobilfunkstandards.

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