Lithografieverfahren mit einer Nanodrahtmaske und mit Diesem Verfahren Hergestellte Nanoskalige Bauelemente
EP2313915
Art B1
29. Juli 2015
Anmelder: Nokia Technologies Oy, Nokia Corporation 🇫🇮
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2313915
- Aktenzeichen
- EP09802546
- Anmeldetag
- 18. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 29. Juli 2015
- Erteilung
- 29. Juli 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/775H01L29/423H01L29/06H01L21/335B82Y10/00B82Y40/00H01L29/66H01L21/308
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nokia Technologies Oy
Nokia Corporation - Land
- 🇫🇮 Finnland
🇫🇮
Nokia Technologies
Finnisches Unternehmen der Nokia-Gruppe, das sich auf Patentlizenzierung sowie Forschung und Entwicklung im Bereich Mobilfunk-, Multimedia- und Netzwerktechnologien konzentriert.
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🇫🇮
Nokia
Nokia ist ein finnischer Technologiekonzern, der Netzwerkausrüstung und Telekommunikationstechnologie für Mobilfunk- und Festnetzbetreiber entwickelt. Das Unternehmen hält zudem umfangreiche Patente im Bereich Mobilfunkstandards.
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