Zusammensetzung zur Deckschichtfilmbildung zur Flüssigkeitsimmersion und Verfahren zur Bildung von Fotolackmustern

EP2315078 Art B1 17. Oktober 2012

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2315078
Aktenzeichen: EP11154169
Anmeldetag: 14. Januar 2005
Veröffentlichung: 17. Oktober 2012
Erteilung: 17. Oktober 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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