Verfahren und Installation zur Herstellung einer Antireflexions- bzw. Passivierungsbeschichtung für Halbleitervorrichtungen
EP2315234
Art A1
27. April 2011
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2315234
- Aktenzeichen
- EP09173541
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 27. April 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00H01L21/027H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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