Gas für Plasmareaktion, Herstellungsverfahren dafür und Verwendung
EP2317543
Art A3
29. August 2012
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2317543
- Aktenzeichen
- EP11154316
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 29. August 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/311C07C21/22C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
2.552 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Albrecht, Thomas
München, Deutschland
2.528
Patente gesamt
31
Fachgebiete
19
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Schwerpunkte