Verfahren und Anordnung zum Herstellen einer Funktionsschicht auf einem Halbleiterbauelement
Anmelder: Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., SCHOTT Solar AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2319093
- Aktenzeichen
- EP09782220
- Anmeldetag
- 26. August 2009
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/18H01L21/228H01L21/318H01L21/67H01L21/316// H01L21/314
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
SCHOTT Solar AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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Fachgebiete
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