Metallische Kupferdispersion, Verfahren zur Herstellung der Metallischen Kupferdispersion, Elektrode, Verkabelungsmuster und Mithilfe der Metallischen Kupferdispersion Geformter Beschichtungsfilm, Dekorativer Artikel und Antimikrobieller Artikel mit dem Darauf Geformten Beschichtungsfilm sowie Verfahren zur Herstellung des Dekorativen Artikels und des Antimikrobiellen Artikels

EP2319643 Art B1 27. März 2019

Anmelder: ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2319643
Aktenzeichen
EP09810033
Anmeldetag
28. August 2009
Veröffentlichung
27. März 2019
Erteilung
27. März 2019
Rechtsraum
EP
IPC
B22F1/00B22F9/24B82Y30/00C08K3/08C09D11/50C09D5/16H05K1/09B22F1/02C08K9/08C09D17/00H01B1/22C09D7/62C09D7/40
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Ishihara Sangyo

Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. ist ein japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, unter anderem bekannt für Titandioxid und Agrarchemikalien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Landwirtschafts- und Nahrungsmitteltechnik sowie organische Chemie, ergänzt um anorganische Werkstoffe und medizintechnische Anwendungen. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

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