Optisches Element für Lithografische Vorrichtung, Lithografische Vorrichtung mit Solch einem Optischen Element und Verfahren zur Herstellung des Optischen Elements

EP2321703 Art B1 16. Januar 2013

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2321703
Aktenzeichen
EP09780906
Anmeldetag
22. Juli 2009
Veröffentlichung
16. Januar 2013
Erteilung
16. Januar 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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