Spektraler Reinheitsfilter, Strahlungsquelle, Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP2326990 Art B1 13. März 2013

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2326990
Aktenzeichen
EP09777067
Anmeldetag
9. Juli 2009
Veröffentlichung
13. März 2013
Erteilung
13. März 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G21K1/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen