Lithographische Vorrichtung und Verfahren

EP2328028 Art B1 10. Februar 2016

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2328028
Aktenzeichen
EP11156407
Anmeldetag
18. März 2008
Veröffentlichung
10. Februar 2016
Erteilung
10. Februar 2016
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands BV
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

390 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen