Gegenüber Aktinischen Strahlen oder Gegenüber Strahlung Empfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zum Bilden von Mustern mit der Zusammensetzung

EP2328864 Art A1 8. Juni 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2328864
Aktenzeichen: EP09749199
Anmeldetag: 28. September 2009
Veröffentlichung: 8. Juni 2011
Rechtsraum: EP
IPC: C07C309/28G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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