Positive Resistzusammensetzung für Immersionsbelichtung und Strukturformungsverfahren

EP2329320 Art B1 1. Mai 2019

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2329320
Aktenzeichen: EP09816304
Anmeldetag: 25. September 2009
Veröffentlichung: 1. Mai 2019
Erteilung: 1. Mai 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C08F20/12G03F7/004G03F7/38H01L21/027G03F7/075G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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