Verfahren zur Herstellung von Hochreinem SIO2 aus Silikatlösungen
EP2331464
Art A1
15. Juni 2011
Anmelder: Evonik Degussa GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2331464
- Aktenzeichen
- EP09783461
- Anmeldetag
- 28. September 2009
- Veröffentlichung
- 15. Juni 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/193
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Evonik Degussa GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Evonik
Deutscher Spezialchemiekonzern mit Sitz in Essen. Entwickelt und produziert Chemikalien, Additive und Materialien für Industrie, Gesundheit, Ernährung und Konsumgüter.
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