Polierverfahren und Polierzusammensetzungen für Siliziumhaltige Substrate

EP2331649 Art B1 13. Juni 2018

Anmelder: Cabot Microelectronics Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2331649
Aktenzeichen
EP09803244
Anmeldetag
23. Juli 2009
Veröffentlichung
13. Juni 2018
Erteilung
13. Juni 2018
Rechtsraum
EP
IPC
C09K3/14H01L21/321B24B37/04C09G1/02H01L21/3105
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Cabot Microelectronics Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cabot Microelectronics

Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.

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