Optische Beleuchtungseinheit für die EUV-Mikrolithografie

EP2333611 Art B8 7. März 2012

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2333611
Aktenzeichen: EP10191631
Anmeldetag: 18. November 2010
Veröffentlichung: 7. März 2012
Erteilung: 7. März 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B5/09

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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