Plasmaätzverfahren, Plasmaätzgerät und Verfahren zur Herstellung eines Photonischen Kristalls

EP2333821 Art A1 15. Juni 2011

Anmelder: Japan Science and Technology Agency 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2333821
Aktenzeichen: EP09809581
Anmeldetag: 27. August 2009
Veröffentlichung: 15. Juni 2011
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065G02B1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Japan Science and Technology Agency
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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