Schutzmodul für Euv-Lithographievorrichtung, sowie Euv-Lithographievorrichtung

EP2335118 Art B1 14. Juni 2017

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2335118
Aktenzeichen: EP09777597
Anmeldetag: 1. August 2009
Veröffentlichung: 14. Juni 2017
Erteilung: 14. Juni 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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