Verfahren zur Herstellung von Mos-Bauelementen mit Hochbeanspruchten Kanälen

EP2335277 Art B1 22. Juli 2015

Anmelder: Advanced Micro Devices, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2335277
Aktenzeichen
EP09793070
Anmeldetag
28. September 2009
Veröffentlichung
22. Juli 2015
Erteilung
22. Juli 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Advanced Micro Devices, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

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