Verwendung einer Zusammensetzung, umfassend ein Silan mit einer Oniumgruppe, zur Bildung einer Resistunterschichtfolie, Resistunterschichtfolie und Methoden zur Bildung eines Resistmusters
EP2336256
Art A1
22. Juni 2011
Anmelder: Nissan Chemical Corporation, Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2336256
- Aktenzeichen
- EP09808226
- Anmeldetag
- 13. August 2009
- Veröffentlichung
- 22. Juni 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D183/08C09D201/00G03F7/11H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nissan Chemical Corporation
Nissan Chemical Industries, Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München