Positive Lichtempfindliche Resistzusammensetzung und Strukturformungsverfahren
EP2338089
Art A1
29. Juni 2011
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2338089
- Aktenzeichen
- EP09816316
- Anmeldetag
- 29. September 2009
- Veröffentlichung
- 29. Juni 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039C08F20/28C08F20/34G03F7/004G03F7/38H01L21/027C08F20/26G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München