Untere Elektrodenanordnung für eine Plasmaverarbeitungskammer
EP2342951
Art B1
6. März 2019
Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2342951
- Aktenzeichen
- EP09829445
- Anmeldetag
- 29. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 6. März 2019
- Erteilung
- 6. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/34H01L21/3065H01J37/20H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Lam Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
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Fachgebiete
3
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