Verfahren zur Bearbeitung eines Resist-Substrats verwendend eine Flüssigkeit zur Bearbeitung eines Substrats
EP2343598
Art A1
13. Juli 2011
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials USA Corp., AZ Electronic Materials (Japan) K.K. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2343598
- Aktenzeichen
- EP09814555
- Anmeldetag
- 14. September 2009
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials USA Corp.
AZ Electronic Materials (Japan) K.K. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Isenbruck Bösl Hörschler PartG mbB
Mannheim, Deutschland
Mannheimer Patentanwaltskanzlei mit fachlich-wissenschaftlichem Team in Chemie, Verfahrenstechnik, Polymeren und Kunststofftechnik, Biotech, Pharma und Life Sciences, Mechanik und Optik sowie Elektrotechnik, Digital und KI.
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