Zusammensetzung zur Bildung einer n-leitenden Diffusionsschicht, Verfahren zur Bildung einer n-leitenden Diffusionsschicht und Verfahren zur Herstellung einer photovoltaischen Zelle
EP2348546
Art A3
16. August 2017
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2348546
- Aktenzeichen
- EP11151994
- Anmeldetag
- 25. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 16. August 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L31/068H01L31/18H01L21/225
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München