Verfahren zur Herstellung eines Lichtemittierenden Nitridhalbleiterelements und Verfahren zur Herstellung eines Epitaktischen Wafers
EP2352182
Art A1
3. August 2011
Anmelder: Sumitomo Electric Industries, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2352182
- Aktenzeichen
- EP09821994
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 3. August 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L33/06H01L33/32H01L33/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sumitomo Electric Industries, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Electric Industries
Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.
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