Verwendung einer Zusammensetzung zur Bildung einer p-leitenden Diffusionsschicht und Verfahren zur Bildung einer p-leitenden Diffusionsschicht
EP2355137
Art B1
25. Mai 2016
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2355137
- Aktenzeichen
- EP11151993
- Anmeldetag
- 25. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 25. Mai 2016
- Erteilung
- 25. Mai 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/22H01L21/225H01L21/223H01L31/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München