Chemisch verstärkte negative Resistzusammensetzung für Elektronenstrahl- oder EUV-Lithographie und Strukturierungsverfahren
EP2360526
Art B1
16. August 2017
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2360526
- Aktenzeichen
- EP11001083
- Anmeldetag
- 10. Februar 2011
- Veröffentlichung
- 16. August 2017
- Erteilung
- 16. August 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/038
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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