System und Verfahren zum Abbilden einer strukturierten Oberfläche
EP2372606
Art A2
5. Oktober 2011
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2372606
- Aktenzeichen
- EP11152770
- Anmeldetag
- 31. Januar 2011
- Veröffentlichung
- 5. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06K9/00G06K9/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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Freeman, Avi
Harrow, Großbritannien
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