Verfahren zum Herstellen und Zusammenbauen von Substraten

EP2375443 Art B1 29. Juli 2020

Anmelder: Soitec, S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2375443
Aktenzeichen
EP11173320
Anmeldetag
14. Oktober 2004
Veröffentlichung
29. Juli 2020
Erteilung
29. Juli 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Soitec
S.O.I.Tec Silicon on Insulator Technologies
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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