Resiststrukturbeschichtungsmittel und Verfahren zur Formung einer Resiststruktur damit
EP2378362
Art A1
19. Oktober 2011
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2378362
- Aktenzeichen
- EP09822037
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2009
- Veröffentlichung
- 19. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40H01L21/027G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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