Verfahren und Einrichtung zum Erzeugen von Euv-Strahlung oder Weichen Röntgenstrahlen mit Erhöhtem Wirkungsgrad
Anmelder: Philips Deutschland GmbH, Koninklijke Philips N.V., Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., Ushio Denki Kabushiki Kaisha, Philips Intellectual Property & Standards GmbH, Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., Xtreme Technologies GmbH, Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2380411
- Aktenzeichen
- EP09775314
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2009
- Veröffentlichung
- 15. April 2015
- Erteilung
- 15. April 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Philips Deutschland GmbH
Koninklijke Philips N.V.
Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Ushio Denki Kabushiki Kaisha
Philips Intellectual Property & Standards GmbH
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Xtreme Technologies GmbH
Koninklijke Philips Electronics N.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.
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Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.
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Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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Fachgebiete
-
van Eeuwijk, Alexander Henricus Waltherus
Signify Netherlands B.V. · Eindhoven