Herstellungsmethode für ein Halbleiterbauelement
EP2381476
Art B1
23. August 2017
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2381476
- Aktenzeichen
- EP11005952
- Anmeldetag
- 9. November 2005
- Veröffentlichung
- 23. August 2017
- Erteilung
- 23. August 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G11C13/00G11C17/14G11C17/16G11C17/18H01L21/822H01L23/66H01L27/06H01L27/12H01L27/24H01L27/28H01L45/00H01L51/00B82Y10/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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