Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie
EP2382510
Art B1
15. März 2017
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2382510
- Aktenzeichen
- EP10701208
- Anmeldetag
- 25. Januar 2010
- Veröffentlichung
- 15. März 2017
- Erteilung
- 15. März 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hofmann, Stefan
Nürnberg, Deutschland
13
Patente gesamt
8
Fachgebiete
2
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