Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Erbium, Hochreines Erbium, Sputtering-Target aus dem Hochreinen Erbium
EP2383354
Art B1
7. März 2018
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2383354
- Aktenzeichen
- EP10735697
- Anmeldetag
- 13. Januar 2010
- Veröffentlichung
- 7. März 2018
- Erteilung
- 7. März 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C22B59/00C22B9/02C22B9/04C22B9/14C22C28/00C23C14/34C22B5/04C22B5/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte