Plasmaverarbeitungsanlage und Plasmaerzeugungsanlage
EP2384098
Art A1
2. November 2011
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2384098
- Aktenzeichen
- EP09838297
- Anmeldetag
- 15. Januar 2009
- Veröffentlichung
- 2. November 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/46H01L21/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
3.840 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Paget, Hugh Charles Edward
London, Großbritannien
2.000
Patente gesamt
31
Fachgebiete
19
Anmelder-Länder
Schwerpunkte