Verfahren zum Formen einer Negativen Resiststruktur, Entwickler und Resistzusammensetzung mit Negativer Chemischer Verstärkung Dafür, sowie Resiststruktur

EP2384458 Art A1 9. November 2011

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2384458
Aktenzeichen: EP10735970
Anmeldetag: 29. Januar 2010
Veröffentlichung: 9. November 2011
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/32G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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