Herstellungsverfahren für eine Nanokanal-Vorrichtung

EP2384816 Art B1 4. April 2018

Anmelder: IMEC VZW, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd., Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D, Katholieke Universiteit Leuven, K.U.L. Leuven R&D, IMEC 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2384816
Aktenzeichen: EP11164603
Anmeldetag: 3. Mai 2011
Veröffentlichung: 4. April 2018
Erteilung: 4. April 2018
Rechtsraum: EP
IPC: B01L3/00H01L21/02B82Y15/00B82Y40/00// H01L21/764

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC VZW
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D
Katholieke Universiteit Leuven, K.U.L. Leuven R&D
IMEC
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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