Verfahren zur Bildung einer Speicherzelle unter Verwendung von Gasclusterionenstrahlen
EP2393957
Art B1
6. März 2013
Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2393957
- Aktenzeichen
- EP10702188
- Anmeldetag
- 26. Januar 2010
- Veröffentlichung
- 6. März 2013
- Erteilung
- 6. März 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/22G11C16/02H01L27/24H01L45/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Micron Technology, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Kanzlei
Carpmaels & Ransford LLP
Carpmaels & Ransford gehört zu den ältesten IP-Kanzleien überhaupt und geht auf eine 1776 gegründete Patentagentur zurück. Von London, München und Dublin aus führt sie als eine der wenigen Häuser Parallelverfahren vor EPA, UPC und britischen Gerichten aus einem Team.
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