Halbleiterstruktur und Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterstruktur

EP2394299 Art B8 25. Januar 2017

Anmelder: NXP USA, Inc., Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2394299
Aktenzeichen
EP09786348
Anmeldetag
3. Februar 2009
Veröffentlichung
25. Januar 2017
Erteilung
25. Januar 2017
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/417H01L29/51H01L29/66H01L29/778H01L29/872H01L29/20H01L21/74H01L27/06H01L29/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
NXP USA, Inc.
Freescale Semiconductor, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 NXP USA

US-amerikanische Gesellschaft des Halbleiterkonzerns NXP, die Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation und Industrieelektronik entwickelt.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen