Beschichtungsverfahren und Beschichtungsvorrichtung
EP2397232
Art A1
21. Dezember 2011
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2397232
- Aktenzeichen
- EP11170339
- Anmeldetag
- 17. Juni 2011
- Veröffentlichung
- 21. Dezember 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B05D1/00G03F7/16H01L21/67// B05D3/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München